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반도체_전공정장비

뉴파워프라즈마, 반도체공정에서 플라즈마 썼으니 청소해야죠? (쉽게설명!)

뉴파워프라즈마 사업

플라즈마제거(23%, Remote Plasma Generator), 플라즈마전원공급(5%, RF Generator), A/S(16%), 방산업체(56%, 자회사 한국화이바=기체부품조립),  / PECVD, PEALD 등 플라즈마 Capa 보유
· RPG(Remote Plasma Generator) : 챔버안 남은 플라즈마제거(Plasma Cleaning 부품)
* RPG : 불소(Fluorine)계열 가스로 챔버 외부에서 플라즈마 생성 > 챔버 속으로 플라즈마 Radical만 보냄 > 챔버안 남아있던 플라즈마 찌거기와 결합 > 배기   
· RFG(Radio Frequency Generator) : 고주파로 플라즈마를 챔버안에 밀어넣는 전원모듈
· 자회사s : 한국화이바(방위사업=기체부품), 엔피씨이에스(진공장비), 밀리트로닉스(통신모듈), 피앤피인베스트먼트(창업투자)


기회
· 중국 현지 장비&설치 판매 가능 > 중국 반도체 수요 증가 > 동사 수혜
· 박막 CVD에서 ALD로 진화 중 > ALD향 RPG, RFG Capa 보유  

리스크
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업데이트 :


주주구성(23.8월 기준) :




뉴파워프라즈마

뉴파워프라즈마는 반도체, 디스플레이에 활용되는 플라즈마(Plasma)공급장비에 부품을 납품하는 업체인데요. 대표적으로 RPG(Remote Plasma Generator), RFG(Radio Frequency Generator)가 있습니다. RPG는 챔버 안에서 식각, 박막, 증착공정에서 쓰고 남은 플라즈마를 제거해주는 것인데요. 불소(F, Fluorine)계열 가스를 챔버 밖에서 플라즈마 형태로 만들어 챔버 안으로 넣으면, 챔버에 남아있던 플라즈마들이 결합되서 배출되는 원리이죠. 플라즈마를 따로 챔버 밖에서 만든다고 해서 Remote(거리가 있는) Plasma(플라즈마) Generator(생성기)라고 불리는 것이죠. RFG는 플라즈마를 공급하는 장치의 전원모듈 역할을 해요. 스마트폰은 통신으로 라디오파(Radio Frequency)를 사용하죠. 플라즈마 전원 통신장치도 RF를 이용하기 때문에, Radio Frequency Generator가 쓰입니다.  

1. RPG(Remote Plasma Generator) :  Plasma Cleaning 부품


  뉴파워프라즈마는 RPG(Remote Plasma Generator)라는 모듈을 생산하는데요. 플라즈마를 제거하는 Plasma Cleaning 부품으로 쓰여요. 예를 들어볼게요.

  박막공정은 Film(필름)을 씌우는 것이죠. 예를 들면, 반도체에서는 포토공정-에칭공정이 끝나면, 그려진 회로를 보호하기 위해 필름을 씌우고요. 디스플레이에서도 LCD, OLED 할 것 없이 분해해보면 층(Layer)가 나뉘어져 있고 층끼리 간섭이 없게 보호해주는 것이 Film의 역할입니다. 박막공정은 높은 에너지로 빠르고 정확하게 필름을 씌우는 것이 핵심이기 때문에 고에너지를 지닌 플라즈마를 사용하죠. 플라즈마로 박막이 끝나면 잔여 플라즈마가 남겠죠? 이를 제거해줘야합니다. 즉, Plasma Cleaning이 필요한 것이죠.

실제 RPG기기 / 출처 : 뉴파워프라즈마


  원리는 간단해요. 불소(Fluorine)계열 가스(Gas)를 사용하여 챔버의 외부에서 Plasma를 만들어요. Plasma를 만들 기 때문에 RPG의 'G'가 Generator(생성)인 것이죠. 만든 Plasma의 고에너지원인 Radical만 챔버에 전달하면, 남아있던 챔버 속  플라즈마와 결합하여 내보내는 것이죠. 같은 플라즈마를 흘려보내주면, 남아있던 찌꺼기 플라즈마들이 동족이 오니 합체를 하고 그대로 배기되는 거죠. 즉, 눈에는 눈, 이에는 이 작전 인 것입니다. 뉴파워프라즈마는 RPG는 플라즈마 발생기(Reactor)와 전원공급장치(MF Generator)를 합쳐서 만들고 있죠.  

  앞서 박막공정만 설명했지만, 플라즈마는 식각, 증착(박막) 공정 모두에서 고에너지와 짧은 공정시간 때문에 가리지 않고 쓰이고 있습니다.

RPG(Remote Plasma Generator) 적용처 : 주로 반도체에 PECVD, PEALD 등에 쓰이는 것을 알 수 있음 / 출처 : 뉴파워프라즈마

2. RF Generator : 플라즈마발생 전원모듈장치


  뉴파워프라즈마는 플라즈마를 제거하는 RPG 뿐만 아니라, 챔버 속 플라즈마를 생성할 때 쓰이는 전원장치 모듈도 만드는데요. RF Generator입니다. RF는 Radio Frequency의 약자로 라디오파를 이용해 플라즈마 전원장치를 켜고 끄기 때문에 RF Generator이란 이름이 붙었죠. 우리가 쓰는 스마트폰이 모두 라디오파로 통신을 하기 때문에 어찌보면 당연한 것이죠.

  참고로, 플라즈마 발생장치에는 고주파수가 들어가는데요. 플라즈마를 밀어 넣을 때, 고주파로 밀어넣어야하기 때문이죠. 피부과에 가면 화장품 피부에 잘 먹으라고 고주파를 쏘죠. 같은 원리이죠. RF Generator는 반도체의 초미세화, 3D 구조화로 인해 다양한 주파수 영역대가 필요해졌고 특히 고출력의 RFG가 필요해졌기 때문에 점차 반도체향으로 매출이 늘어날 것으로 예상됩니다.

RFG(Radio Frequency Generator) / 출처 : 뉴파워프라즈마



연구실적으로 보는 뉴파워프라즈마의 현 주소 :


  개인적으로 뉴파워프라즈마의 연구실적과 연구계획을 보면 동사의 현 상황과 미래 비전이 보인다고 생각을 하는데요. 같이 몇 개만 살펴볼까요.

  아래 그림은 동사의 중장기 성장 로드맵인데요. 위에서 부터 차례대로 보면, 점차 미세화(nm, 나노미터), CVD > ALD, RF Total Solution으로 향하는 것을 알 수 있습니다. 미세화는 앞서 말했듯 반도체가 점차 미세화되다 보니 그 사이에 남아있던 플라즈마 파티클(Particle)들을 챔버 안에서 없애주는 것이 중요해졌죠(RPG 담당). CVD > ALD는 화학적 기상증착에서 원자층증착 방식으로 진화한 것을 의미하는데요. 화학적기상증착은 빠르지만, 박막을 씌우는데 있어서 불균일성의 문제가 있고 무엇보다 화학약품을 많이 쓰기 때문에 친환경적이지 않습니다. 반대로, ALD는 속도는 느리지만 원자단위로 층을 쌓기 때문에 층의 균일도가 상당히 균일하며 환경오염에서도 어느 정도 자유롭습니다.  

  RF Total Solution은 RF+RPG+MAT를 합친 것인데요. 앞서 RF는 주파수를 이용한 플라즈마 생성전원장치, RPG는 외부에서 플라즈마를 생성하여 챔버 속에 플라즈마 파티클 제거였죠. RF가 RPG를 챔버안에 밀어넣어준다고 생각하면 둘이 협업을 할 수 있는 그림이 그려질 거에요. MAT는 Matcher의 줄임말로, 고주파로 얼마나 플라즈마를 효율적으로 챔버 속에서 형성하는지를 보는 건데요. 즉, 고주파를 쏜 만큼 플라즈마가 비례적으로 만들어지는 것을 의미하죠.  '효용성'의 개념에서 이해하면 충분합니다.



뉴파워프라즈마에 대한 지속적인 업데이트는 맨 위 상단을 참고하면 유익합니다 :)